實驗室高真空箱   VCD高真空箱性能

VCD高真空箱是一種用于實現(xiàn)高真空環(huán)境的設備，常用于科研實驗、材料處理、電子元件制造等領(lǐng)域。它具有以下性能特點：1. 高真空度：VCD高真空箱能夠提供非常高的真空度，通?？蛇_到10^-6或更高的級別。這種高真空環(huán)境能夠有效去除氣體和雜質(zhì)，為實驗或處理提供干凈的環(huán)境。

2. 密封：VCD高真空箱具有良好的密封性能，能夠有效防止氣體泄漏和雜質(zhì)進入。它通常采用優(yōu)質(zhì)的密封材料和設計，確保箱體的密封性能。

3. 穩(wěn)定性和均勻性：VCD高真空箱具有較好的溫度和壓力穩(wěn)定性，能夠在設定的高真空條件下保持穩(wěn)定狀態(tài)。同時，它還能夠提供均勻的高真空環(huán)境，確保樣品或處理物體在整個空間內(nèi)獲得一致的處理效果。

4. 控制系統(tǒng)：VCD高真空箱配備先進的控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)對真空度、溫度、壓力等參數(shù)的精確控制和調(diào)節(jié)。操作人員可以根據(jù)實際需求設置合適的參數(shù)，以實現(xiàn)所需的處理效果。

5. 安全性：VCD高真空箱通常具有多重安全保護裝置，如過壓保護、過溫保護、漏電保護等，確保設備和操作人員的安全。

需要注意的是，使用VCD高真空箱時，應嚴格按照操作規(guī)程進行操作，并定期進行設備維護和保養(yǎng)，以確保設備的正常運行和安全性。

一、簡介：VCD高真空箱主要應用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設備成功經(jīng)驗，通過不斷潛心研究，突破傳統(tǒng)技術(shù)創(chuàng)造性解決了精密高真空設備的控制難點，能精準控制133Pa以下的真空度。

二、主要技術(shù)指標：

規(guī)格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另購（可用戶自備）

VCD高真空箱具有許多好處和優(yōu)勢，以下是其中幾個主要的：1. 提供高品質(zhì)的研究環(huán)境：VCD高真空箱能夠提供非常高的真空度，可以有效去除氣體和雜質(zhì)，為科研實驗提供干凈的環(huán)境。高真空環(huán)境能夠減少或消除外界因素對實驗的干擾，提高實驗的準確性和重復性。

2. 保護材料和樣品：高真空環(huán)境可以有效防止材料的氧化、腐蝕和污染，保護樣品的完整性和質(zhì)量。它也可以防止外界濕度和氣體對材料的影響，延長材料的壽命。

3. 實現(xiàn)特殊處理：VCD高真空箱具有穩(wěn)定的溫度和壓力控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)對材料的特殊處理，如高溫處理、熱處理、薄膜沉積等。這些處理可以改變材料的物理和化學性質(zhì)，從而獲得特殊的性能和特性。

4. 廣泛的應用領(lǐng)域：VCD高真空箱在科學研究、材料科學、電子元件制造、光學器件制造等領(lǐng)域有著廣泛的應用。它可以用于研究新材料的性質(zhì)和應用、制備薄膜和納米結(jié)構(gòu)、進行表面處理和清洗等。

5. 安全和可靠：VCD高真空箱通常具有多重安全保護裝置，如過壓保護、過溫保護、漏電保護等，確保設備和操作人員的安全。它也具有穩(wěn)定的性能和可靠的操作系統(tǒng)，能夠長時間穩(wěn)定運行。

總的來說，VCD高真空箱能夠提供高真空環(huán)境，為科研實驗和材料處理提供良好的條件，具有廣泛的應用領(lǐng)域和許多好處。